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详细介绍

PERC电(diàn)池片工(gōng)艺流程

1.1 激光掺杂

应用(yòng)背景及作(zuò)用(yòng)：PERC 适用(yòng)于单 、 多(duō)晶硅电(diàn)池


激光掺杂原理(lǐ)：

激光作(zuò)用(yòng)在掺杂源(钝化层)和硅片表面，利用(yòng)激光熔化原理(lǐ)，预涂层的掺杂原子扩散到硅基材表面，形成重掺杂区(qū)，使硅电(diàn)池正面与金属形成良好的欧姆接触。


1.2 激光开膜

应用(yòng)背景及作(zuò)用(yòng)：PERC& IBC， 适用(yòng)于单 、 多(duō)晶硅电(diàn)池


激光的作(zuò)用(yòng)：

利用(yòng)激光的瞬时脉冲热效应原理(lǐ)选择性去除背钝化膜绝缘层，使铝浆与硅基体(tǐ)接触充分(fēn)，形成良好欧姆接触，从而提升FF（填充因子）及开压。

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