HALO系列“二合一”PECVD

产(chǎn)品特点 1.石墨舟电(diàn)极技(jì )术：前电(diàn)极面接触，可(kě)定期更换清洗电(diàn)极块，尾电(diàn)极炉管外可(kě)调，加大电(diàn)极尺寸及优化电(diàn)极材料，良好解决高频报警问题；
2.快速降温炉体(tǐ)：采用(yòng)最新(xīn)专利技(jì )术，使炉体(tǐ)温度可(kě)以快速降到所需温度，降温速率提升25%以上，明显提升炉管内温度均匀性；
3.专利储舟位并行散热方式：提升降温效果，缩短降温时间15%以上，同时避开底部从操作(zuò)台前面进气，提高操作(zuò)台内部洁净度；
4.石英管辅助吊装(zhuāng)工(gōng)具(jù)，大大降低安(ān)装(zhuāng)和维修更换石英管的难度；
5.膜的致密性高于间接等离子体(tǐ)；
6.比ALD有(yǒu)更好的钝化效果。

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产(chǎn)品应用(yòng)

项目	技(jì )术指标
成膜种类	AlO,SiO,SiON,SiN,SiC
装(zhuāng)片量	768片/批(182mm),616片/批(210mm),500片/批(230mm)
氧化铝膜厚均匀性	片内≤6%片间≤6%批间≤5%(182片)
氧化铝折射率	1.65(±0.05)
UP-TIME	≥98%
工(gōng)作(zuò)温度范围	100~600℃
温度控制	9点控温，内外双模控制
升温方式	自动斜率升温及快速恒温功能(néng)
降温方式	最新(xīn)专利技(jì )术，9温区(qū)分(fēn)段控制主动降温炉体(tǐ)
恒温区(qū)精(jīng)度及长(cháng)度	±2°C/3200mm(500°C)
单点温度稳定度	<±1°C/4h(500°C)
升温时间	RT→450℃≤45min
温度控制	双模精(jīng)确控制
系统极限真空度	<3Pa
系统漏气率	停泵关阀后压力升率<1Pa/min
压力控制方式	快速调整全自动闭环
工(gōng)艺控制方式	工(gōng)艺过程全自动控制，多(duō)重安(ān)全连锁报警
人机交互界面	LCD显示、触摸操作(zuò)、工(gōng)艺编辑、在线(xiàn)监控、权限管理(lǐ)、班组管理(lǐ)、组网功能(néng)
MES/CCRM	具(jù)有(yǒu)

产(chǎn)品参数

适用(yòng)于高效晶体(tǐ)硅PERC电(diàn)池工(gōng)艺过程中(zhōng)生长(cháng)致密的氧化铝等背钝化薄膜材料，具(jù)有(yǒu)多(duō)种复合膜连续生长(cháng)的特点。

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